TiO2 thin films on si substrate obtained by PLD for sensing applications

Titanium dioxide (TiO2) thin films were deposited by pulsed laser deposition on Si substrate. An KrF excimer laser with wavelength of 248 nm was used for the irradiation of TiO2 targets. The substrates were heated during the film deposition at 400°C under an oxygen pressure of 35 mTorr, 50 mTorr and...

Teljes leírás

Elmentve itt :
Bibliográfiai részletek
Szerzők: Bandas Cornelia
Cernica Ileana
Orha Corina
Rus Stefania
Lazau Carmen
Testületi szerző: International Symposium on Analytical and Environmental Problems (21.) (2015) (Szeged)
Dokumentumtípus: Könyv része
Megjelent: 2015
Sorozat:Proceedings of the International Symposium on Analytical and Environmental Problems 21
Kulcsszavak:Elektrokémia
Online Access:http://acta.bibl.u-szeged.hu/55936

Hasonló tételek